CCL

Összesen 4 találat.
#/oldal:
Részletezés:
Rendezés:

1.

001-es BibID:BIBFORM125593
035-os BibID:(WoS)001341701000001 (Scopus)85207673395
Első szerző:Bikbashev, Arkadii
Cím:NiO Nano- and Microparticles Prepared by Solvothermal Method-Amazing Catalysts for CO2 Methanation / Arkadii Bikbashev, Tomáš Stryšovský, Martina Kajabová, Zuzana Kovářová, Robert Prucek, Aleš Panáček, Josef Kašlík, Tamás Fodor, Csaba Cserháti, Zoltán Erdélyi, Libor Kvítek
Dátum:2024
ISSN:1420-3049
Tárgyszavak:Természettudományok Fizikai tudományok idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
folyóiratcikk
nickel oxide
solvothermal synthesis
morphologhy
carbon dioxide
methanation
Megjelenés:Molecules. - 29 : 20 (2024), p. 1-19. -
További szerzők:Stryšovský, Tomáš Kajabová, Martina Kovářová, Zuzana Prucek, Robert Panáček, Aleš Kasmadi, Kartika Aprillia Fodor Tamás Cserháti Csaba (1963-) (fizikus) Erdélyi Zoltán (1974-) (fizikus) Kvítek, Libor
Internet cím:Szerző által megadott URL
DOI
Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:

2.

001-es BibID:BIBFORM126744
035-os BibID:(WoS)001377489100001 (Scopus)85212041905
Első szerző:Kale, Paresh
Cím:Interface Engineering via Metal-coating of Silicon Nanostructured Thin Films for Reducing Anode Pulverization / Paresh Kale, Sakti Prasanna Muduli, Rama Chandra Muduli, Gergő Vecsei, Laura Juhász, Bence Parditka, Tamás Fodor, Csaba Cserháti, Zoltán Erdélyi
Dátum:2024
ISSN:1229-7607 2092-7592
Tárgyszavak:Természettudományok Fizikai tudományok idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
folyóiratcikk
focused ion beam
X-ray photoelectron spectroscopy
X-ray reflectivity
magnetron sputtering
grazing-incidence x-ray diffraction
si nanostructures
Megjelenés:Transactions on Electrical and Electronic Materials. - 1 (2024), p. 1-13. -
További szerzők:Muduli, Sakti Prasanna Muduli, Rama Chandra Vecsei Gergő (1997-) (anyagkutató/fizikus) Juhász Laura (1993-) (fizikus) Parditka Bence (1985-) (fizikus) Fodor Tamás Cserháti Csaba (1963-) (fizikus) Erdélyi Zoltán (1974-) (fizikus)
Pályázati támogatás:TKP2021-NKTA-34
Egyéb
TKP2021-NKTA
Egyéb
Internet cím:Szerző által megadott URL
DOI
Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:

3.

001-es BibID:BIBFORM129060
035-os BibID:(Scopus)86000633151
Első szerző:Lemago, Hamsasew
Cím:Thermal and plasma-enhanced ALD for the synthesis of inverse opal Al2O3 and its composite materials / Lemago, Hamsasew Hankebo ; Arwen, Soeun Choi ; Hessz, Dóra ; Jágerszki, Gyula ; Pál, Petra ; Cserháti, Csaba ; Baradács, Eszter Mónika ; Fodor, Tamás ; Erdélyi, Zoltán ; Szilágyi, Imre Miklós
Dátum:2025
ISSN:0042-207X
Tárgyszavak:Természettudományok Fizikai tudományok idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
folyóiratcikk
Al2O3 inverse opal
Thermal ALD
Plasma-enhanced ALD
Al2O3/ZnO composite
Al2O3/TiO2composite
Megjelenés:Vacuum. - 238 (2025), p. 1-11. -
További szerzők:Arwen, Soeun Choi Hessz Dóra Jágerszki Gyula Pál Petra (1995-) (anyagkutató) Cserháti Csaba (1963-) (fizikus) Baradács Eszter (1974-) (fizikus) Fodor Tamás Erdélyi Zoltán (1974-) (fizikus) Szilágyi Imre Miklós
Pályázati támogatás:TKP2021 BME-NVA
Egyéb
TKP2021-NKTA-34
Egyéb
Internet cím:Szerző által megadott URL
DOI
Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:

4.

001-es BibID:BIBFORM112435
035-os BibID:(WoS)000898946400001 (Scopus)85145006989
Első szerző:Shenouda, S. S. (fizikus)
Cím:Optimization of the structural and optical properties of ALD grown ZnO thin films for photocatalytic applications: thickness dependence / S S Shenouda, M Saif, E Baradács, B Parditka, T Fodor, Z Erdélyi
Dátum:2023
ISSN:0031-8949
Megjegyzések:Thin films of ZnO with different thicknesses (ranging from 8 to 40 nm) have been prepared by plasma-enhanced atomic layer deposition. Grazing incidence x-ray diffraction shows the nano-crystalline structure of the films with high degree of disorder. The films have also lattice oxygen and non-lattice oxygen where the film with 20 nm thickness has the highest percentage of the non-lattice oxygen. These films have indirect optical transitions. The energy gap increases slightly with decreasing the film thickness (2.96, 3.03 and 3.16 eV for the thicknesses 40, 20 and 8 nm, respectively). These films have strong photocatalytic activity to treat the water from the organic dyes such as Levafix Brilliant Red. The film with thickness 20 nm has the optimum photocatalytic activity and the lowest contact angle with water. The photoinduced super-hydrophilic nature of ZnO film (20 nm) renders this film suitable for antifogging application. The high photocatalytic activity and super-hydrophilicity are due to the low recombination rate of charge carriers accompanied to the excess of oxygen vacancies and the high degree of structural disorder.
Tárgyszavak:Természettudományok Fizikai tudományok idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
folyóiratcikk
ZnO
thin films
optical properties
Urbach energy
photocatalysis
Megjelenés:Physica Scripta. - 98 : 1 (2023), p. 1-12. -
További szerzők:Saif, M. Mostafa Baradács Eszter (1974-) (fizikus) Parditka Bence (1985-) (fizikus) Fodor Tamás Erdélyi Zoltán (1974-) (fizikus)
Pályázati támogatás:TKP2021-NKTA-34
Egyéb
Internet cím:Szerző által megadott URL
DOI
Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:
Rekordok letöltése1