Találati lista | Tudóstér

001-es BibID:	BIBFORM005355
Első szerző:	Balogh Zoltán (fizikus)
Cím:	Transition from anomalous kinetics toward Fickian diffusion for Si dissolution in to amorphous Ge / Zoltán Balogh, Zoltán Erdélyi, Dezső L. Beke, Gábor Langer, Attila Csik, Hans-Gerd Boyen, Ulf Wiedwald, Paul Ziemann, Alain Portavoce, Christophe Geirardeaux
Dátum:	2008
Megjegyzések:	Over the last years, several experimental and theoretical studies of diffusion kinetics on the nanoscale have shown that the time evolution (x proportional to t(c)(k)) differs from the classical Fickian law (k(c)=0.5). However, all work was based on crystalline samples or models, so far. In this letter, we report on the diffusion kinetics of a thin amorphous Si layer into amorphous Ge to account for the rising importance of amorphous materials in nanodevices. Employing surface sensitive techniques, the initial k(c) was found at 0.7 +/- 0.1. Moreover, after some monolayers of Si dissolved into the Ge, k(c) changes to the generally expected classical Fickian law with k(c)=0.5.
Tárgyszavak:	Természettudományok Fizikai tudományok idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
Megjelenés:	Applied Physics Letters. - 92 : 14 (2008), p. 143104. -
További szerzők:	Erdélyi Zoltán (1974-) (fizikus) Beke Dezső László (1945-) (fizikus) Langer Gábor Antal (1950-) (fizikus) Csik Attila (1975-) (fizikus) Boyen, Hans-Gerd Wiedwald, Ulf Ziemann, Paul Portavoce, Alain Geirardeaux, Christophe
Internet cím:	elektronikus változat Szerző által megadott URL DOI
Borító:
Saját polcon: