Találati lista | Tudóstér

001-es BibID:	BIBFORM008686
Első szerző:	Nyéki József (fizikus)
Cím:	Sb diffusion and segregation in amorphous Si thin films / J. Nyéki, C. Girardeaux, Z. Erdélyi, A. Csik, L. Daróczi, G. Langer, D. L. Beke, A. Rolland, J. Bernardini, G. Erdélyi
Dátum:	2005
ISSN:	1012-0386
Megjegyzések:	Sb diffusion through an amorphous Si film and antimony segregation kinetics on the top of the Si layer was studied in situ by means of Auger electron spectroscopy in the temperature range of 600-723 K. Segregation factors and antimony diffusivities were estimated from the experimental kinetic curves, on the basis of the model developed by Lea and Seah, the Sb bulk concentration in Si films was measured by transmission electron microscopy. Sb diffusivities proved to be 10-12 orders of magnitude higher than that of measured in crystalline Si.
Tárgyszavak:	Természettudományok Fizikai tudományok idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
Megjelenés:	Defect and Diffusion Forum. - 237-240 (2005), p. 1246-1251. -
További szerzők:	Girardeaux, Christophe Erdélyi Zoltán (1974-) (fizikus) Csik Attila (1975-) (fizikus) Daróczi Lajos (1965-) (fizikus) Langer Gábor Antal (1950-) (fizikus) Beke Dezső László (1945-) (fizikus) Rolland, Andrée Bernardini, Jean Erdélyi Gábor (1950-) (fizikus)
Internet cím:	DOI Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:
Saját polcon: