Magyar
Toggle navigation
Tudóstér
Magyar
Tudóstér
Keresés
Egyszerű keresés
Összetett keresés
CCL keresés
Egyszerű keresés
Összetett keresés
CCL keresés
Böngészés
Saját polc tartalma
(
0
)
Korábbi keresések
Összesen 1 találat.
#/oldal:
12
36
60
120
Rövid
Hosszú
MARC
Részletezés:
Rendezés:
Szerző növekvő
Szerző csökkenő
Cím növekvő
Cím csökkenő
Dátum növekvő
Dátum csökkenő
1.
001-es BibID:
BIBFORM118843
035-os BibID:
(cikkazonosító)111260 (WoS)000819305900002 (Scopus)85132791850
Első szerző:
Bodnár Eszter (fizikus)
Cím:
Grain boundary diffusion of Si in polycrystalline copper film / Eszter Bodnár, Viktor Takáts, Tamás Fodor, József Hakl, Yuri Kaganovskii, Guang Yang, Xiaogang Yao,Kálmán Vad
Dátum:
2022
ISSN:
0042-207X
Megjegyzések:
Grain boundary (GB) diffusion of Si in polycrystalline Cu film was studied in the temperature range of 403?453 K, in the C-type kinetic regime. The amorphous Si layer (80 nm) and polycrystalline Cu layer (40 nm) were successively deposited by magnetron sputtering at room temperature onto a Si (111) wafer. Appearance of Si atoms on the copper surface due to GB diffusion through the copper layer was detected by low energy ion scattering spectroscopy with high sensitivity. The depth distribution of Si in Cu grain boundaries was revealed by secondary neutral mass spectrometry. Surface morphology of Cu films was investigated by scanning tunneling microscopy. Identification of Si chemical bonds on the surface layer was made by X-ray photoelectron spectroscopy. GB diffusion coefficients were estimated by the relation used for calculation of diffusant distribution from a constant source in assumption that the diffusion path equals to the film thickness at the moment of appearing Si atoms on the Cu surface. At 453 K we estimated the surface segregation factor and detected formation of Cu?O?Si atomic bonds on the Cu film surface.
Tárgyszavak:
Természettudományok
Fizikai tudományok
idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
folyóiratcikk
Cu/Si nanolayers
Grain boundary diffusion
Low energy ion scattering
Nanoscale diffusion
Megjelenés:
Vacuum. - 203 (2022), p.1-5. -
További szerzők:
Takáts Viktor
Fodor Tamás
Hakl József
Kaganovskii, Yuri S.
Yang, Guang
Yao, Xiaogang
Vad Kálmán
Pályázati támogatás:
TKP2021-NKTA-42
Egyéb
2019-2.1.7-ERANET-2021-00021
Egyéb
Internet cím:
Szerző által megadott URL
DOI
Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:
Saját polcon:
Rekordok letöltése
1
Corvina könyvtári katalógus v8.2.27
© 2023
Monguz kft.
Minden jog fenntartva.