CCL

Összesen 3 találat.
#/oldal:
Részletezés:
Rendezés:

1.

001-es BibID:BIBFORM101484
035-os BibID:(cikkazonosító)169078 (WoS)000797648000009 (Scopus)85129446610
Első szerző:Fouad, Suzan Salad
Cím:The real role of Cu metallic interlayer on the dielectric dispersion and conduction mechanism of TiO2/Cu/TiO2 nanolaminates / S. S. Fouad, Bence Parditka, H. E. Atyia, Eszter Baradács, Zoltán Erdélyi
Dátum:2022
ISSN:0030-4026
Megjegyzések:In the present work, the effect of interference of highly transparent and conducting TiO2/Cu/TiO2 nanolaminated films with various Cu metallic interlayer thickness grown on Si (100) substrates by atomic layer deposition (ALD) and magnetron sputtering techniques on the dielectric properties and the AC conductivity of the as-prepared thin films, in the frequency range of 0.1-1000 kHz and in the temperature range of 300-393 K was investigated. The main goal of the studies performed was to compare the dielectric properties and the AC conductivity in two different Cu interlayer thicknesses (20 and 40 nm) and also to assess and relate the resulting properties with several experimental parameters. The AC conductivity measurements showed semiconducting behavior. The variation of the frequency exponent r has been explained in terms of different conduction mechanisms, the correlated barrier hopping (CBH), beside the quantum mechanical tunneling (QMT) models, depending on the Cu metallic interlayer thickness. It is found that the value of the maximum barrier height (W-m) decreases with increasing the Cu interlayer thickness and agree with that proposed by the theory of hopping of charge carriers. The study of the dielectric dispersion reveals that the Debye-type relaxation process was observed at the lower Cu interlayer thickness and fades as the Cu interlayer thickness increases. An observed decrease of dielectric loss with frequency downto low values indicates the suitability of the present samples for several energy storage applications. A new parameter related to the AC conductivity and dielectric constant ratio was studied and analyzed. The present outcome suggests that the thickness of the Cu metallic interlayer plays a vital role in the electric and dielectric properties of the films under investigation.
Tárgyszavak:Természettudományok Fizikai tudományok idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
folyóiratcikk
tio2
nanolaminated films
cu interlayer
dielectric relaxation
cbh model
tunneling model
Megjelenés:Optik. - 260 (2022), p. 1-7. -
További szerzők:Parditka Bence (1985-) (fizikus) Atyia, H. E. Baradács Eszter (1974-) (fizikus) Erdélyi Zoltán (1974-) (fizikus)
Pályázati támogatás:TKP2020-IKA-04
Egyéb
Internet cím:Szerző által megadott URL
DOI
Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:

2.

001-es BibID:BIBFORM092086
035-os BibID:(cikkazonosító)166617
Első szerző:Fouad, Suzan Salad
Cím:Bilayer number driven changes in polarizability and optical property in ZnO/TiO2 nanocomposite films prepared by ALD / S. S. Fouad, B. Parditka, M. Nabil, E. Baradács, S. Negm, H. E. Atyia, Z. Erdélyi
Dátum:2021
ISSN:0030-4026
Tárgyszavak:Természettudományok Fizikai tudományok idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
folyóiratcikk
atomic layer deposition
optical energy gap
linear refractive index
polarizability
electrical susceptibility
Megjelenés:Optik. - 233 (2021), p. 1-7. -
További szerzők:Parditka Bence (1985-) (fizikus) Nabil, M. Baradács Eszter (1974-) (fizikus) Negm, S. Atyia, H. E. Erdélyi Zoltán (1974-) (fizikus)
Pályázati támogatás:NKFIH-1150-6/2019
Egyéb
Internet cím:Szerző által megadott URL
DOI
Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:

3.

001-es BibID:BIBFORM083066
035-os BibID:(cikkazonosító)163933
Első szerző:Zaka, Hanaa
Cím:Investigation of dispersion parameters, dielectric properties and opto-electrical parameters of ZnO thin film grown by ALD / Hanaa Zaka, B. Parditka, Z. Erdélyi, H. E. Atyia, Pankaj Sharma, S. S. Fouad
Dátum:2020
ISSN:0030-4026
Tárgyszavak:Természettudományok Fizikai tudományok idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
folyóiratcikk
zno
ald
thin films
opto-electrical parameters
direct optical band gap
Megjelenés:Optik. - 203 (2020), p. 1-9. -
További szerzők:Parditka Bence (1985-) (fizikus) Erdélyi Zoltán (1974-) (fizikus) Atyia, H. E. Sharma, Pankaj Fouad, Suzan Salad
Internet cím:Szerző által megadott URL
DOI
Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:
Rekordok letöltése1 
Corvina könyvtári katalógus v8.2.27 © 2023 Monguz kft. Minden jog fenntartva.