Találati lista | Tudóstér

001-es BibID:	BIBFORM101934
035-os BibID:	(Wos)000183967200046 (Scopus)0037904188
Első szerző:	Nyéki József (fizikus)
Cím:	Equilibrium surface segregation enthalpy of Ge in concentrated amorphous SiGe alloys / Nyéki J, Girardeaux C, Erdélyi G, Rolland A, Bernardini J
Dátum:	2003
ISSN:	0169-4332
Megjegyzések:	Auger electron spectroscopy technique was used to study surface segregation of Ge in concentrated amorphous Si1-xGex thin film alloys. The alloys (with Ge bulk concentrations in the range of 18-58 at.%) were prepared by dc magnetron sputtering and annealed in a UHV chamber in the temperature range of 653-673 K. The surface equilibrium data (X-s(Ge) versus X-b(Ge)) were determined from segregation kinetics. We show that (i) the experimental data can be interpreted using McLean-Langmuir isotherms with a segregation enthalpy DeltaH((exp)) equals to 5.3 +/- 0.5 kJ mol(-1) and (ii) the estimated segregation enthalpy is lower than the theoretical one calculated in crystalline alloys neglecting the alloying and the size effects. (C) 2003 Elsevier Science B.V. All rights reserved.
Tárgyszavak:	Természettudományok Fizikai tudományok idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban folyóiratcikk Auger electron spectroscopy surface segregation concentrated alloys amorphous thin films silicon-germanium
Megjelenés:	Applied Surface Science. - 212-213 (2003), p. 244-248. -
További szerzők:	Girardeaux, Christophe Erdélyi Gábor (1950-) (fizikus) Rolland, Andrée Bernardini, Jean
Internet cím:	Szerző által megadott URL DOI Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:
Saját polcon: