Bejelentkezés
Magyar
Toggle navigation
Tudóstér
Bejelentkezés
Magyar
Tudóstér
Keresés
Egyszerű keresés
Összetett keresés
CCL keresés
Egyszerű keresés
Összetett keresés
CCL keresés
Böngészés
Saját polc tartalma
(
0
)
Korábbi keresések
Összesen 1 találat.
#/oldal:
12
36
60
120
Rövid
Hosszú
MARC
Részletezés:
Rendezés:
Szerző növekvő
Szerző csökkenő
Cím növekvő
Cím csökkenő
Dátum növekvő
Dátum csökkenő
1.
001-es BibID:
BIBFORM062783
Első szerző:
Hegedűs Csaba (fogszakorvos)
Cím:
Enhanced Physicochemical and Biological Properties of Ion-Implanted Titanium Using Electron Cyclotron Resonance Ion Sources / Csaba Hegedűs, Chia-Che Ho, Attila Csik, Sándor Biri, Shinn-Jyh Ding
Dátum:
2016
ISSN:
1996-1944
Megjegyzések:
The surface properties of metallic implants play an important role in their clinical success. Improving upon the inherent shortcomings of Ti implants, such as poor bioactivity, is imperative for achieving clinical use. In this study, we have developed a Ti implant modified with Ca or dual Ca + Si ions on the surface using an electron cyclotron resonance ion source (ECRIS). The physicochemical and biological properties of ion-implanted Ti surfaces were analyzed using various analytical techniques, such as surface analyses, potentiodynamic polarization and cell culture. Experimental results indicated that a rough morphology was observed on the Ti substrate surface modified by ECRIS plasma ions. The in vitro electrochemical measurement results also indicated that the Ca + Si ion-implanted surface had a more beneficial and desired behavior than the pristine Ti substrate. Compared to the pristine Ti substrate, all ion-implanted samples had a lower hemolysis ratio. MG63 cells cultured on the high Ca and dual Ca + Si ion-implanted surfaces revealed significantly greater cell viability in comparison to the pristine Ti substrate. In conclusion, surface modification by electron cyclotron resonance Ca and Si ion sources could be an effective method for Ti implants.
Tárgyszavak:
Orvostudományok
Klinikai orvostudományok
idegen nyelvű folyóiratközlemény külföldi lapban
Calcium
Implant
Ion implantation
Silicon
Titanium
Megjelenés:
Materials. - 9 : 1 (2016), p. 1-12. -
További szerzők:
Ho, Chia-Che
Csik Attila (1975-) (fizikus)
Biri Sándor
Ding, Shinn-Jyh
Internet cím:
Szerző által megadott URL
DOI
Intézményi repozitóriumban (DEA) tárolt változat
Borító:
Saját polcon:
Rekordok letöltése
1
Corvina könyvtári katalógus v10.1.21-SNAPSHOT
© 2024
Monguz kft.
Minden jog fenntartva.